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特殊ガス(ジボラン:B2H6)製造

昭和58年(1983年)に半導体製造用特殊ガス「ジボラン」の商業生産を国内で初めて開始しました。
以後、徹底した保安管理および品質管理(ISO9001認証取得)のもと高品質なジボランを製造し、半導体のみならず液晶、太陽電池製造メーカーに安定的に供給しております。
現在では国内で80%以上のシェアを有しております。
なお、販売元は大陽日酸株式会社となっております。


製造プラント運転監視室

分析室


48L充填容器

10L充填容器

【ジボラン(B2H6)】

ジボランの構造

三中心二電子結合

【ジボランの用途】
   ジボランは半導体用材料ガスとして重要ですが、それ以外では重合触媒、還元剤、ロケットの推進剤等としても有用です。半導体製造ではホウ素のドーピング剤として使われますが、最近ではメモリーの製造過程でも用いられるようになりました。

【リンク先】
 

大陽日酸株式会社 https://www.tn-sanso.co.jp/